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鈰基拋光粉
純鈰拋光粉的關鍵技術：通過將稀土進行合成、焙燒、破碎、分級等工藝制成粒度在0.5um-3.0um稀土拋光粉。該產品主要用于光學玻璃、集成電路基板玻璃、電鍍基板玻璃、高精度光學鏡頭、照像機鏡頭、飛機鋼化玻璃、各種顯示器玻璃等高精度的研磨拋光等10多個規格型號的產品。
內容介紹
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純鈰拋光粉的關鍵技術：通過將稀土進行合成、焙燒、破碎、分級等工藝制成粒度在0.5um-3.0um氧化鈰稀土拋光粉。該產品主要用于光學玻璃、集成電路基板玻璃、電鍍基板玻璃、高精度光學鏡頭、照像機鏡頭、飛機鋼化玻璃、各種顯示器玻璃等高精度的研磨拋光等10多個規格型號的產品。也可用在水鉆、燙鉆、玻璃飾品等。
產品主要特點：粒度細，分布合理，比表面積大，拋光過程中附著力強，懸浮性好，不易沉降。顆粒耐磨，拋光速度快，易清洗。
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