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鈰基拋光粉的氣相法和噴霧熱解法制備說明

來源：www.i1168.com | 發布時間：2022年03月28日

鈰基拋光粉的氣相法和噴霧熱解法制備說明

鈰基拋光粉氣相法制備。

氣相法是指兩種或兩種以上簡單物質或化合物在氣相中反應形成新的納米化合物的方法。氣相法包括低壓氣體蒸發、氣體冷凝、活性氫熔融金屬反應、濺射、電加熱蒸發、揮發性化合物混合、激光誘導化學氣相沉積等。

例如，沉積溫度、退火時間、水壓等工藝參數可以通過DC磁控反應濺射和調節，在雙軸織構Ni-5%w的雙軸織構襯底上生長。

鈰基拋光粉噴霧熱解法制備。

稀土氧化鈰的超細粉末已通過噴霧熱解制備。由于它們具有液相和氣相等諸多優點，近年來已成為制備鈰基拋光超細粉的新方法。

噴霧熱解法是一個連續的過程。顆粒形狀均勻可控。它不需要在各種液相中過濾、清洗、干燥、粉碎和煅燒。在上述過程中，簡化了操作，促進了工業生產，避免了雜質的引入和晶體結構的破壞，從而保證了產品的高純度和高活性。目前，該方法已用于制備一些稀土氧化鈰納米粉，但在制備納米二氧化物時尚未報道。因此，有條件的讀者可以試試。

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